Vàlvula de retenció API 594 Lug Wafer

L'objectiu principal de la vàlvula de retenció d'oblea de doble placa és realitzar el treball de gairebé qualsevol vàlvula convencional.
Tanmateix, ser més petit el fa més lleuger i, per tant, és més rendible de comprar, instal·lar i mantenir.
També és una vàlvula de retenció silenciosa;a causa del seu disseny innovador, no es tanca en tancar.
El disseny de la placa DUAL PLATE WAFER CHECK i el seient pla ofereixen molts avantatges.
El seient pla elimina qualsevol possibilitat que el tauler s'enganxi al seient, que es produeixen amb freqüència en altres vàlvules.
Quan estan suspeses en un passador vertical, les dues plaques tenen un pes reduït que elimina el desgast excessiu de les puntes de les plaques.
Aquest desgast pot provocar que la placa s'enfonsi a la superfície oberta del seient, fent que la vàlvula falli posteriorment.
Una característica important de la vàlvula DUAL PLATE WAFER CHECK és que no depèn de la pressió o el cabal per centrar les plaques en relació a la superfície de segellat per tal de fer el segellat.
Els dissenys convencionals de placa única, fins i tot els que tenen guies de centratge, requereixen una contrapressió i un flux de retorn per centrar la placa al seient per tal d'aconseguir un ajust sense fuites.Aquesta característica esdevé extremadament arriscada en cas de reducció del cabal i la manipulació de gasos a baixa pressió